미 고위 당국자, EUV 장비 중국 반입 허용 여부에 대한 답변 거부
로이터 “SK하이닉스, 미중 갈등의 또 다른 희생자 될 수 있다”
[이코노미21 김창섭 본부장] SK하이닉스가 중국 장쑤성 우시(無錫) 공장에 반도체 초미세공정 극자외선(EUV) 노광장비를 설치하려는 계획이 미국 정부의 제동으로 무산될 가능성이 있다는 우려가 나왔다.
SK하이닉스는 중국 우시 공장에서 D램 칩의 절반 가량을 생산하고 있으며 이는 전세계 D램 생산량의 15%에 해당한다.
로이터 통신은 복수의 소식통을 인용해 “SK하이닉스가 우시 공장에 네덜란드 반도체 장비업체인 ASML의 EUV 노광장비를 설치해 반도체 제조 공정의 수율을 끌어올린다는 계획을 세웠으나 미국 정부의 반대를 넘을 수 있느냐는 불투명하다”고 보도했다.
통신에 따르면 미 백악관 고위 당국자는 SK하이닉스의 EUV 장비 중국 반입을 허용할 것인지 여부에 대해 답변을 거부했다. 그러나 그는 “조 바이든 정부가 중국군 현대화에 쓰일 수 있는 최첨단 반도체 개발에 미국과 동맹국의 기술을 활용하는 것을 막는다는 입장에 변함이 없다”고 말했다.
로이터 통신은 “SK하이닉스가 수년 안에 이 문제를 해결하지 못하면 삼성전자나 미국 마이크론과의 경쟁에서 불리한 입장에 놓일 것이라면서 SK하이닉스가 미중 갈등의 또 다른 희생자가 될 수 있다”고 분석했다.
SK하이닉스는 우시 공장의 칩 제조 기계를 ASML의 최신 EUV 노광장비로 업그레이드 하겠다는 계획이다.
업계 관련 소식통은 “2~3년 안에 SK하이닉스 생산에서 새로운 유형의 칩이 더 많은 부분을 차지하게 될 것이기 때문에 회사는 비용을 절감하고 생산을 가속화하기 위해 EUV 기계가 필요하다”고 설명했다.
한편 로이터 통신은 관련 사안에 대한 질문에 SK하이닉스 측이 답변을 거부했다고 밝혔다. [이코노미21]
